ПК моделирования изображений для фотолитографии

Предназначен для определения возможных дефектов при производстве СБИС, в том числе скрытых. Моделирование процесса литографии представляется двумя этапами:

1) маски проецируются в фоторезист в виде воздушного изображения;

2) трехмерные формы фоторезиста разрабатываются и структурируются на основе интенсивности изображения.

В состав ПК входят следующие программные средства: моделирования изображения на поверхности фоторезиста; распределенной и удалённой обработки данных в мультипроцессорной системе; визуализации результатов моделирования; анализа, классификации и корректировки дефектов топологии.